成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三

12月8日，英诺赛科（珠海）科技有限公司为ASML光刻机成功导入8英寸硅基氮化镓量产线举办了庆典。事实上，早在今年年初，英诺赛科就和ASML达成了批量购买高产能i-line和KrF光刻机的协议，用于制造先进的硅基氮化镓功率器件。

英诺赛科首席执行官孙在亨介绍，英诺赛科于今年第二季度引进ASML光刻机，改善了光刻工艺窗口，进一步提高了产能和产线良率，随后在短短三个月内实现试生产，最终在10月进入正式量产阶段。

孙在亨表示，通过与半导体设备领跑者ASML的合作，加快了英诺赛科产品推向市场的速度，助力蓬勃发展的氮化镓半导体行业。

资料显示，英诺赛科科技有限公司成立于2015年12月，是一家致力于第三代半导体硅基氮化镓芯片制造的企业。公司成功建成投产全球首条200mm硅基氮化镓晶圆与功率器件量产生产线，主要产品包括200mm硅基氮化镓晶圆及30V-650V氮化镓功率器件。

受惠于高、低压GaN产品出货量大幅增长，英诺赛科快充产品首次进入一线笔电厂商供应链。与此同时，其苏州8英寸晶圆厂已步入量产阶段，IDM模式优势将在GaN产业高速发展中逐步显现。

根据TrendForce集邦咨询预测，2021年，英诺赛科的市占率将攀升至20%，跃升为全球第三。

据公众号“ASML阿斯麦光刻”介绍，这是一次重大突破，ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。ASML的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产，为其长期发展保驾护航。